China ha dado un paso significativo en la fabricación de chips con el desarrollo de su primer equipo de litografía de vanguardia. Este avance es el resultado de un esfuerzo titánico por parte de los fabricantes chinos de equipos de litografía, respaldados por subvenciones multimillonarias del gobierno de Xi Jinping.
Inversión y desarrollo
A principios de septiembre de 2023, el gobierno chino aprobó una partida de 41.000 millones de dólares destinada a las compañías que producen equipos para la fabricación de circuitos integrados. Una de estas empresas es Pulin Technology, que ha desarrollado su primer equipo de vanguardia utilizando la tecnología de litografía de nanoimpresión (NIL).
Tecnología NIL
La tecnología NIL no es nueva; la compañía japonesa Canon ha tenido su propia solución NIL comercial desde hace años. Canon comenzó a trabajar en la litografía NIL en 2004 y entregó su primera máquina NIL funcional en 2017. La litografía NIL permite transferir patrones a la oblea de silicio sin la necesidad de un sistema óptico extremadamente complejo, lo que la hace más sencilla y económica, aunque más lenta que la litografía UVE y UVP.
Comparación con ASML
Los equipos de fotolitografía NIL son una alternativa a las máquinas de litografía de ultravioleta extremo (UVE) diseñadas y fabricadas por la compañía neerlandesa ASML. Aunque los equipos UVE son los más sofisticados y caros que existen actualmente, la litografía NIL ofrece una estrategia de fabricación de circuitos integrados diferente y potencialmente más económica.
Futuro y costos
Canon asegura que sus equipos de litografía de nanoimpresión pueden ser utilizados para fabricar circuitos integrados equiparables a los chips de 5 nm que TSMC, Samsung o Intel producen con las máquinas UVE de ASML. Además, un equipo NIL cuesta diez veces menos que una máquina UVE de ASML, lo que podría hacer que la tecnología NIL sea una opción más accesible para la fabricación de chips avanzados en el futuro.
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